L’objectif de ce projet de recherche est de proposer un procédé de fabrication de guides d’onde SiN permettant de réduire toutes les sources de pertes optiques. D’une part, il s’agira de développer et d’optimiser des procédés de gravure par plasma permettant de structurer des guides avec des rugosités minimales pour diminuer les pertes par diffusion. Une piste prometteuse pour atteindre cette objectif est d’utiliser les technologies de plasma pulsé, disponibles au LTM/CNRS, qui offrent une multitude de possibilité pour structurer la matière sans dommage. D’autre part, il s’agira d’explorer des traitements de recuits compatibles avec le budget thermique de la plateforme CMOS pour s’affranchir des pertes par absorption.